Oberflächenphysik

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Quelle: Wikipedia. Seiten: 95. Kapitel: Elektronenmikroskop, Oberflächenspannung, Rastertunnelmikroskop, Rasterkraftmikroskop, Adsorption, Adhäsion, Photoelektronenspektroskopie, Inverse Photoemissionsspektroskopie, Oberflächenchemie, Sputtern, Rauheit, Kapillarität, Elektronenbeugung, Physikalische Gasphasenabscheidung, Auger-Elektronen-Spektroskopie, Sorptionsisotherme, Röntgen-Nahkanten-Absorptions-Spektroskopie, Oberflächenrekonstruktion, Gitterführungseffekt, Helium-Atom-Streuung, Low Energy Electron Diffraction, Molekularstrahlepitaxie, EXAFS, Überstruktur, Rutherford Backscattering Spectrometry, Tastschnittverfahren, Oberflächenenergie, Ionenstrahlgestützte Deposition, Grenzflächenspannung, Laserstrahlverdampfen, Sekundärionen-Massenspektrometrie, Benetzung, Kapillaritron, Niederenergetisches Elektronenmikroskop, Schichtwachstum, Temperatur-programmierte Desorption, Ablation, Wulff-Konstruktion, Feldionenmikroskop, ZEKE-Spektroskopie, Oberflächenrelaxation, Rastertunnelspektroskopie, Penetrometer, Physisorption, BET-Messung, Young-Laplace-Gleichung, Elektrobenetzung, Elektronenstrahlmikroanalyse, Kelvin-Sonde, Langmuir-Blodgett-Schicht, Kapillarwelle, Lichtbogenverdampfen, Kontaktwinkel, Monozeit, Strippung, Ionenplattieren, Stufenkorrelationsfunktion, Niederenergetische Ionenstreuspektroskopie, Chemisorption, Sputter-Ionenquelle, RHEED, Sekundäremission, Oberflächensensitive Röntgenbeugung, Plateau-Rayleigh-Instabilität, Sekundär-Neutralteilchen-Massenspektrometrie, Tolansky-Verfahren, Elektronenstrahlverdampfer, Kantenflucht, Oberflächengüte, Vakuumniveau, Substrat, Spreitung, Stalagmometer-Methode, Monolage, Elektronenholographie, Rugotest, Korrugation, Youngsche Gleichung, Elastische Rückstreudetektionsanalyse, Meniskus, Liste der Ionisationsmethoden in der Massenspektrometrie, Metastable Impact Electron Spectroscopy, Haftkoeffizient, Tribophysik, Oberflächenkrümmung, Bindungsplatz, Adatom. Auszug: Die Photoelektronenspektroskopie (PES) oder Photoemissionsspektroskopie beruht auf dem äußeren Photoeffekt, bei dem Photoelektronen durch elektromagnetische Strahlung aus einem Festkörper gelöst werden. In einem vereinfachten Modell verläuft der Prozess der Photoemission in drei Schritten. Zunächst erfolgt die Anregung des Elektrons durch das einfallende Photon, danach der Transport des angeregten Elektrons zur Oberfläche und als dritter Schritt der Austritt des Photoelektrons. Die Austrittsrichtung und die kinetische Energie dieser Elektronen erlaubt Rückschlüsse auf die chemische Zusammensetzung und die elektronische Beschaffenheit des untersuchten Festkörpers. In der Festkörperphysik und in benachbarten Gebieten wie der Oberflächenphysik, der Oberflächenchemie und der Werkstoffforschung spielt die Photoelektronenspektroskopie eine zentrale Rolle bei der Untersuchung besetzter elektronischer Zustände. Die apparative Weiterentwicklung seit dem Jahr 2000 erschloss der Photoelektronenspektroskopie neue Felder der Grundlagenforschung. Die Photoelektronenspektroskopie unterteilt sich in die Bereiche der Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie (UPS, engl. ), der Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS, engl. , auch ESCA, engl. ) und der winkelaufgelösten Photoelektronenspektroskopie (ARPES, engl. ). Die Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie trifft vorwiegend Aussagen über chemische Verbindungen und elektronische Eigenschaften eines Materials. Die Röntgenphotoelektronenspektroskopie liefert Informationen über die Elementzusammens...