Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
BücherAngebote / Angebote:
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
Lieferbar in ca. 10-20 Arbeitstagen
Preis
240,00 CHFVerfügbarkeit:
LieferbarArtikel, die Sie kürzlich angesehen haben
Lieferbar in ca. 10-20 Arbeitstagen
180,00 CHF
Lieferbar in ca. 20-45 Arbeitstagen
23,90 CHF